脱毛化妆品配方体系与工艺
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脱毛化妆品配方体系与工艺
2007-11-09 10:00:39 来源: 显示次数： 编辑： 进入化妆品技术交流论坛
脱毛化妆品是指具有减少、消除体毛作用的化妆品。用脱毛化妆品可达到净肤、洁肤、 增强美感的作用。因不是借助于剃刀和拔毛镊子等去除毛发的，且可使皮肤表面的绒毛除 净，刺激性低，无痛楚感，并使皮肤光滑，因此，又将此类化妆品称为化学脱毛剂。这一类 脱毛剂一般是呈膏霜的形式。
良好的化学脱毛剂的性能要求是：在短时间内能软化体毛，作用温和，对皮肤安全、无 刺激性，脱毛效率高等。
人体的毛发和体毛的成分是相同的，都是由角蛋白组成。由于体毛和毛发的角蛋白的分 子链间除存在氢键、盐键、范德华力、共价多肽和酯键等外，还存在二硫键，而二硫键是贡 献毛发刚度和机械强度以及稳定性的主要键合形式，它对一般的酸碱性介质环境以及大多数 有机介质是惰性的。因此，一般情况下，在接近室温时，稀酸或稀碱以及有机溶剂对角蛋白 没有明显作用。但二硫键可被还原剂还原而发生断裂，毛发的机械强度也因此降低，容易被 折断除去。脱毛剂就是通过还原剂的作用破坏二硫键和多肽键。其脱毛机理是：在碱性条件 下，利用还原剂将构成体毛的主要成分角蛋白胱氨酸链段中的二硫键还原成半胱氨酸，从而 切断体毛，达到脱毛的目的。碱性物质的作用主要是辅助肽键的水解以及膨胀毛发，使还原 剂的渗入和处理更为明显。
二、脱毛化妆品原料组成
化衙林饕抢枚远蚣鸹乖饔玫奈镏史⒒幼饔玫摹９ニ褂玫耐衙乖?nbsp 剂是无机硫化-物，如硫化钠、硫化钙、硫化锶、硫化钡等。这些无机盐还原剂有较强的臭味和刺激性，且容易氧化而失去活性，现逐渐被巯基乙酸盐类所取代，目前已较少使用。目前主要的还原剂是有机类的巯基乙酸盐类（钙、钾、钠盐），与巯基乙酸类似的巯甘醇也可用 作脱毛剂。巯基乙酸钙等盐类的刺激性低，其臭味也较少，是目前的主要脱毛剂原料。在脱 毛化妆品中还需有氢氧化钾或氢氧化钠（钙）来提高产品的碱性。脱毛剂和卷发剂的作用都 是破坏毛发中的二硫键，但卷发剂在处理中防止硫化链完全的破坏、不完全丧失毛发的刚度 是极为重要的；而脱毛剂目的则是要求足够的破坏二硫键的能力，因此，二者所使用的碱性 物质的类型不同。脱毛剂中使用的是非挥发性的强碱，处理效果好且不具有不良的挥发气 味。此外，还常加入尿素等脱毛辅助剂，以利于体毛的角蛋白膨胀而取得较佳的脱毛效果。
脱毛化妆品的主要品种有液体、膏体和粉体状制品，常见的有脱毛液（露）和脱毛膏霜。
研究表明，较好的脱毛剂的巯基乙酸盐的浓度为2.5％～4.0％，某些情况可高达6％～7％；制剂的pH值范围在9.0～12.5，常为10.5～12.5；一般制成O／W型乳化体系，还通常添加水溶性的聚合物来增加制品的稳定性。O／W型乳液的润湿和溶胀作用较W／O型乳化体系强，脱毛功效较高。
三、配方实例及制备工艺
化学脱毛剂的配方例如下。
配方l（脱毛霜）
组分 质量分数／％
白油 3.0
羊毛醇 1.0
十六醇 4.0
鲸蜡硬脂醇（及）聚乙二醇（20） 5.0
组分 质量分数／％
鲸蜡硬脂醇醚 5.0
氢氧化钾（30％水溶液） 适量（调节pH值为12.5）
羟乙基纤维素 0.2
巯基乙酸钾（30％水溶液） 15.0
氢氧化钙 0.5
香精、色素、防腐剂 适量
去离子水 66.3
膏霜类脱毛剂的制备较其它剂型的脱毛剂困难，具体为：在油相熔化和水相溶解并混合 形成乳化体后，需要将组分中的巯基乙酸盐和氢氧化物以及部分水混合形成水溶液或浆状 物，然后加入乳化体系中，搅拌均匀后加入香精，然后继续搅拌。或直接将巯基乙酸盐类、 氢氧化物溶入水相中进行配制，最后用碱进行体系pH值的调节。
配方2（脱毛液）
组分 质量分数／％
巯基乙酸钙 7.0
氨水 适量（调节pH值为13.4）
甘油 12.0
酒精 8.0
香精 1.0
去离子水 加至100.0
脱毛液的制法较为简单，具体为：将巯基乙酸钙、甘油和水混合后，将香料溶解于酒精后加入上述水溶液，搅拌均匀，调节体系的pH值，过滤后装入棕色瓶中。
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